本發(fā)明提供一種真空蒸鍍用蒸發(fā)源,包括蒸發(fā)材料及
碳納米管復(fù)合膜,該碳納米管復(fù)合膜為一載體,該蒸發(fā)材料設(shè)置在該碳納米管復(fù)合膜表面,通過該碳納米管復(fù)合膜承載,該碳納米管復(fù)合膜包括碳納米管膜結(jié)構(gòu)及
復(fù)合材料,該復(fù)合材料設(shè)置在該碳納米管膜結(jié)構(gòu)表面。本發(fā)明還提供一種真空蒸鍍裝置和真空蒸鍍方法。
聲明:
“真空蒸鍍用蒸發(fā)源,真空蒸鍍裝置及方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)