本發(fā)明公開了一種高暴露(001)晶面TiO2/g?C3N4復(fù)合光催化劑的制備方法,包括以下步驟:(1)將水溶性的鈦源、氟源、富含N的有機(jī)化合物按照摩爾比1 : (0.3~30) : (0.1~10)混合后配成水溶液,并轉(zhuǎn)移到水熱反應(yīng)釜中,反應(yīng)制得
復(fù)合材料;(2)將上述復(fù)合材料經(jīng)過(guò)濾洗滌后,在馬弗爐中煅燒制得高暴露(001)晶面TiO2/g?C3N4復(fù)合光催化劑。本發(fā)明采用水熱反應(yīng)自組裝,一步制備出高暴露(001)晶面TiO2/g?C3N4復(fù)合光催化劑,其制備工藝簡(jiǎn)單,生產(chǎn)成本大幅降低,制得的TiO2/g?C3N4復(fù)合光催化劑材料界面更加均勻;TiO2/g?C3N4復(fù)合光催化劑在可見光下降解有機(jī)污染物的速率比純g?C3N4提高了近一個(gè)數(shù)量級(jí),表現(xiàn)出更強(qiáng)的光催化性能和更低的光生電荷復(fù)合效率。
聲明:
“高暴露(001)晶面TiO2/g?C3N4復(fù)合光催化劑的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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