本發(fā)明涉及防偽技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種光學(xué)防偽方法,該光學(xué)防偽方法具體地涉及無(wú)痕的光學(xué)防偽簽名方法和隱藏的光學(xué)防偽圖案方法,該無(wú)痕的光學(xué)防偽簽名方法采用由NaYF4:Yb,Tm
稀土上轉(zhuǎn)換材料和碳點(diǎn)基室溫磷光材料組成所述近紅外激發(fā)的碳點(diǎn)基室溫磷光
復(fù)合材料為基底,借助近紅外激光筆來(lái)實(shí)現(xiàn)無(wú)痕的光學(xué)防偽簽名,具有字跡清晰、容易操作、安全性高等優(yōu)點(diǎn);該隱藏的光學(xué)防偽圖案方法采用由NaYF4:Yb,Tm稀土上轉(zhuǎn)換材料和碳點(diǎn)基室溫磷光材料組成所述近紅外激發(fā)的碳點(diǎn)基室溫磷光復(fù)合材料來(lái)制作,能方便快捷且清晰地用近紅外光激發(fā)出隱藏的防偽圖案。
聲明:
“光學(xué)防偽方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)