本發(fā)明公開了一種單層MoS2與
石墨烯復合
納米材料的制備方法,該
復合材料由單層MoS2與石墨烯復合構成,單層MoS2與石墨烯之間物質(zhì)量之比為1∶0.5-1∶4,其制備方法是先將氧化石墨烯超聲分散在去離子水中,然后加入陽離子表面活性劑,充分攪拌后再加入硫代鉬酸銨,并向上述混合體系中慢慢滴加水合肼,連續(xù)攪拌并加熱到95℃,在回流下反應,使硫代鉬酸銨和氧化石墨烯同時分別還原成MoS2和石墨烯,離心分離收集固體產(chǎn)物,去離子洗滌,真空干燥,再將所得固體產(chǎn)物在氮氣/氫氣混合氣氛中熱處理。本發(fā)明方法具有工藝簡單,易于工業(yè)化擴大應用的特點,可以大規(guī)模制備單層MoS2與石墨烯復合納米材料。
聲明:
“單層MoS2與石墨烯復合納米材料的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)