本發(fā)明屬于納米
復合材料技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種橫向納米腔陣列結(jié)構(gòu)SERS基底,由內(nèi)部設有一個中空腔體的半開放空心微球構(gòu)成,其在水平方向上設置有一個橫向開孔,所述的半開放空心微球其內(nèi)層為表面修飾了4?MBA探針分子的TiO
2薄膜,在TiO
2薄膜外部還鍍有一層貴金屬薄膜。其通過結(jié)合模板法制備而成,以等離子體清洗的聚苯乙烯小球陣列為支撐,將TiO
2和貴金屬經(jīng)傾角磁控濺射的手段獲得。本發(fā)明克服了現(xiàn)有技術(shù)中的SERS基底無法有效構(gòu)建出電場強度相同而電流密度不同電學環(huán)境的缺陷,通過本發(fā)明可構(gòu)建電場強度相同但電流密度不同電學環(huán)境,以此可用于研究等離子體誘導的電荷轉(zhuǎn)移機制以及SERS物理增強與化學增強的中間態(tài)理論。
聲明:
“橫向納米腔陣列結(jié)構(gòu)SERS基底及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)