本發(fā)明公開了一種MoS2帶孔納米片/
石墨烯復(fù)合
納米材料及其制備方法,其由單層和少層數(shù)的MoS2帶孔納米片與石墨烯復(fù)合構(gòu)成,MoS2與石墨烯之間的物質(zhì)的量之比為1 : 1-1 : 3。其制備方法是首先將氧化石墨烯超聲分散在去離子水中,再加入陽離子型柱[5]芳烴超分子,并充分攪拌,然后依次加入L-半胱氨酸和鉬酸鈉,充分攪拌使其溶解,將上述混合分散體系轉(zhuǎn)移到水熱反應(yīng)釜中,于230-250℃下水熱反應(yīng)20-24h后,自然冷卻至室溫,離心收集水熱固體產(chǎn)物,用去離子水充分洗滌,干燥,最后在氮氣/氫氣混合氣氛中熱處理,制備得到MoS2帶孔納米片/石墨烯復(fù)合納米
復(fù)合材料。本發(fā)明的方法具有簡單、方便的優(yōu)點。
聲明:
“MoS2帶孔納米片/石墨烯復(fù)合納米材料及制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)