本發(fā)明公開了一種高溫環(huán)境下使用(800℃)的高發(fā)射率紅外輻射涂層材料體系的制備方法,屬于無機材料領(lǐng)域,本發(fā)明采用氧化硅為基料,氧化鉻為主要輻射劑,氧化鈦為高輻射添加劑,經(jīng)低能球磨混合工藝使原料充分混合均勻,經(jīng)噴霧干燥造粒工藝制備適合等離子噴涂工藝的成品粉末,最后經(jīng)等離子噴涂工藝在
復(fù)合材料面板上制備高發(fā)射率紅外輻射涂層。本發(fā)明SiO
2?Cr
2O
3?TiO
2涂層體系既具有較高發(fā)射率,又具有高抗熱震性能的紅外輻射性能,采用的制備工藝成熟,生產(chǎn)效率高,本發(fā)明的原料來源廣泛,配制容易,操作簡單,有望在工業(yè)領(lǐng)域大規(guī)模生產(chǎn),應(yīng)用前景廣闊。
聲明:
“高溫高發(fā)射率紅外輻射涂層材料體系及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)