本發(fā)明涉及一種雙周期多層TaC/HfC超高溫陶瓷抗燒蝕涂層及制備方法,目的為了提高現(xiàn)有超高溫陶瓷涂層的抗燒蝕性能。技術方案是采用低壓化學氣相沉積(LPCVD)技術一步可在碳/碳
復合材料表面制備出多層交替的TaC/HfC超高溫陶瓷抗燒蝕涂層。TaC和HfC雙周期多層結(jié)構不僅可以抑制裂紋的萌生和擴展;燒蝕過程中還可形成一種具有致密結(jié)構的Hf?Ta?O的固溶氧化層。與單層結(jié)構相比,所制備出的雙周期多層TaC/HfC涂層在氧乙炔燒蝕環(huán)境下具有更加優(yōu)異的抗燒蝕性能。
聲明:
“雙周期多層TaC/HfC超高溫陶瓷抗燒蝕涂層及制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)