一種高擊穿和高
儲能的FPE與P(VDF?HFP)基多層結構復合薄膜及其制備方法,涉及復合薄膜制備技術領域。本發(fā)明的目的是為了解決傳統(tǒng)的
復合材料薄膜不能兼具高介電常數(shù)和高擊穿強度的問題。方法:將P(VDF?HFP)薄膜置于兩層FPE薄膜之間,進行熱壓工藝處理,最后冷卻,得到高擊穿和高儲能的FPE與P(VDF?HFP)基多層結構復合薄膜。本發(fā)明可獲得一種高擊穿和高儲能的FPE與P(VDF?HFP)基多層結構復合薄膜及其制備方法。
聲明:
“高擊穿和高儲能的FPE與P(VDF-HFP)基多層結構復合薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)