本發(fā)明公開了一種制備鈮酸鋰表面圖形的方法,該方法包括:在鈮酸鋰襯底表面制作掩膜圖形;采用氟基等離子對鈮酸鋰襯底進行干法刻蝕,以刻蝕鈮酸鋰;采用氧等離子對鈮酸鋰襯底進行刻蝕,以刻蝕在鈮酸鋰表面形成的氟化鋰;重復(fù)上述采用氟基等離子及氧等離子的刻蝕步驟,直至完成鈮酸鋰表面圖形的制備。利用本發(fā)明,解決了氟基等離子刻蝕鈮酸鋰時表面再沉積氟化鋰的問題,達(dá)到制備大深度、底面光滑鈮酸鋰表面圖形的目的。本方法簡單易用,可以用于鈮酸鋰的刻蝕,獲得大深度、底面光滑的鈮酸鋰表面圖形。
聲明:
“制備鈮酸鋰表面圖形的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)