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雙印跡多孔硅膜的制備方法及其應(yīng)用

720   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 23:20:22
本發(fā)明屬于超分子合成及吸附材料制備技術(shù)領(lǐng)域,涉及鋰/銣離子雙吸附材料的制備,尤其涉及一種雙印跡多孔硅膜的制備方法及其應(yīng)用。本發(fā)明先以纖維素納米晶體(NCC)為模板,摻雜離子印跡對羧基偶氮杯[4]芳烴(IPCA4A)合成二氧化硅薄膜,通過浸漬法在硅膜表面負載離子印跡杯[4]芳烴(IC4A),水熱處理去除NCC模板得到雙印跡多孔硅膜。利用杯芳烴可以通過改變杯環(huán)和上行或下行的取代基以及苯環(huán)單元的亞甲基,得到具有高選擇性和高吸附性能的功能性杯芳烴衍生物。對羧基偶氮杯[4]芳烴(PCA4A)和杯[4]芳烴(C4A)的大環(huán)結(jié)構(gòu)大小恰好分別與鋰離子和銣離子相匹配,能對鋰/銣離子進行高效的選擇性吸附;制得雙印跡多孔硅膜,綠色環(huán)保,結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,具有良好的吸附性能和重復(fù)性。
聲明:
“雙印跡多孔硅膜的制備方法及其應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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