制備包含顆粒和涂層的涂覆顆粒的方法,其中所述顆粒包含式HnYm-GLDA的谷氨酸N,N-二乙酸或其(部分)鹽,其中Y為選自鈉、鉀、鋰及其混合物的陽離子,n+m=4,其中所述顆粒由具有4-11的pH值且包含谷氨酸N,N-二乙酸或其部分鹽的溶液制備,且隨后或同時(shí)將所述涂層施加至所述顆粒上;還涉及HnYm-GLDA的半成品顆粒,其中n為0.1-3.2,m為0.8-3.9,以及可由所述方法獲得的涂覆顆粒及其用途。
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“谷氨酸N,N-二乙酸鹽螯合劑的涂覆顆?!?該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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