本發(fā)明涉及一種用于半導體晶片拋光藥液的組合物,包括次氯酸鋰、碳酸氫鹽和硅溶膠。本發(fā)明還涉及了一種包括所述組合物的拋光藥液以及制備方法。本發(fā)明提供的拋光藥液可以針對(111)特殊角度的半導體晶片,以達到光滑均勻,沒有腐蝕坑、孔洞等缺陷的優(yōu)異晶片表面。本發(fā)明提供的拋光藥液可作為通用性拋光藥液,而且原料價廉易得、降低了藥液成本,具有廣闊的市場應用價值。
聲明:
“用于半導體晶片的拋光藥液組合物、拋光藥液及制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)