一種片上低損耗超細(xì)脊?fàn)畈▽?dǎo)的制備方法,包括在薄膜表面鍍金屬層、飛秒激光選擇性燒蝕金屬膜、化學(xué)機械拋光和過度拋光及金屬膜化學(xué)腐蝕等步驟。本發(fā)明方法能夠制備寬度在亞微米級,表面和邊緣光滑度極高,傳輸損耗極低的超細(xì)脊?fàn)畈▽?dǎo)。該方法適用于各種片上薄膜(包含但不限于鈮酸鋰單晶薄膜、石英薄膜、硅薄膜、二氧化硅薄膜、金剛石薄膜等)上制備高品質(zhì)的超細(xì)脊?fàn)畈▽?dǎo)。
聲明:
“片上低損耗超細(xì)脊?fàn)畈▽?dǎo)的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)