本實(shí)用新型公開了一種線路板堿性蝕刻液的無液氨處理裝置,包括:氨處理槽,所述氨處理槽用于盛裝含有氨水和/或無機(jī)銨鹽溶液,或用于盛裝無機(jī)銨鹽固體;至少一個(gè)氨配制槽,所述的氨配制槽用于盛裝堿性蝕刻液和/或堿性蝕刻廢液和/或堿性蝕刻再生配制溶液,或者用于配制堿性蝕刻子液;氣體引流裝置,所述的氣體引流裝置用于將氣體從所述的氨處理槽引流至所述的氨配制槽中。過該裝置能在不使用液氨的情況下實(shí)現(xiàn)對(duì)堿性蝕刻液進(jìn)行氨源的補(bǔ)充,也能在堿性蝕刻廢液再生為堿性蝕刻子液的過程中實(shí)現(xiàn)氨源的安全添加。
聲明:
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