本發(fā)明公開了一種梯度高硅鋼的制備工藝,將錳、鈮、釩等微量合金元素、純度金屬硅和純鐵按比例放入高頻真空感應(yīng)加熱爐中,抽真空澆鑄成FeSi合金錠,然后加工成陰極靶材,備用;將上述陰極靶材放置于鍍膜室,氬氣作為濺射氣體進(jìn)行陰極離子鍍;使表層硅含量達(dá)到6.5wt%左右;再退火、涂層,并進(jìn)行磁性能檢測(cè)。本發(fā)明通過利用改進(jìn)硅鋼成分和多弧離子鍍膜制備技術(shù)來(lái)制備梯度高硅鋼薄板,通過陰極電弧放電在靶材表面附近產(chǎn)生的等離子體,改善反應(yīng)離子鍍膜質(zhì)量。使得表層硅含量6.5%,內(nèi)部呈梯度分布,按一定的梯度逐一遞減,電阻率高,磁導(dǎo)率高,磁通集中在表面,渦流也集中在表面,損耗小,內(nèi)部硅含量低于6.5%,總的損耗低的6.5%硅鋼。
聲明:
“一種梯度高硅鋼的制備工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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