本發(fā)明提供一種化學(xué)機(jī)械研磨機(jī)臺用水壓探測報警系統(tǒng),包含主體,其包括承載和清洗晶圓的平臺、氣動閥、氣壓管路和多個水壓管路;平臺具有探測平臺上升和/或下降的位置的平臺位置傳感器;氣動閥設(shè)置在至少一個水壓管路上并同時與氣壓管路連接;水壓管路連接在平臺和化學(xué)機(jī)械研磨機(jī)臺之間;系統(tǒng)還包含水壓傳感器、氣壓傳感器和控制器;水壓傳感器連接在至少一個水壓管路上;氣壓傳感器連接至氣動閥;控制器用于與水壓傳感器、氣壓傳感器、平臺位置傳感器以及化學(xué)機(jī)械研磨機(jī)臺通過信號進(jìn)行連接。本發(fā)明還提供一種上述化學(xué)機(jī)械研磨機(jī)臺用水壓探測報警系統(tǒng)的應(yīng)用。上述系統(tǒng)及其應(yīng)用能夠有效控制和實(shí)時探測噴洗水壓的大小,避免異常發(fā)生。
聲明:
“化學(xué)機(jī)械研磨機(jī)臺用水壓探測報警系統(tǒng)及其應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)