本發(fā)明公開了一種用于銅箔微觀分析的蝕刻液及其配制方法與蝕刻方法,所述蝕刻液的配制方法為:配制飽和氯化銅銨溶液和飽和
氯化鐵溶液,將飽和氯化銅銨溶液、飽和氯化鐵溶液和HCl倒入容量瓶中混合,再加入去離子水定容得到蝕刻液。本發(fā)明通過三種簡單的化學試劑調(diào)配出的用于銅箔微觀分析的蝕刻液蝕刻銅箔表面后,銅的晶體輪廓能明顯顯現(xiàn)出來,在金相顯微鏡下能直觀的觀察銅箔表面的晶格,在SEM下能分析晶粒大小、晶格取向、晶界等等,為銅箔材料的微觀分析奠定了基礎。
聲明:
“用于銅箔微觀分析的蝕刻液及其配制方法與蝕刻方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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