本實(shí)用新型涉及化工反應(yīng)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其是一種化學(xué)氣相沉積陶瓷保護(hù)膜反應(yīng)裝置,包括CH4儲存罐、H2儲存罐、蒸發(fā)器、CVD反應(yīng)室和真空抽氣泵, CH4儲存罐和H2儲存罐上均連接有支管,支管上且位于閥門的上方均設(shè)有流量計(jì),支管另一端均連接有主管道,主管道上設(shè)有壓力表和氣體
檢測儀,主管道另一端連接有蒸發(fā)器,述蒸發(fā)器上通過設(shè)有的出氣管道連接有CVD反應(yīng)室,CVD反應(yīng)室兩側(cè)均設(shè)有高溫爐,CVD反應(yīng)室底端通過抽氣管道連接有真空抽氣泵,有益效果在于:通過氣相化學(xué)反應(yīng)形成固體物質(zhì)沉積,不易受到外部環(huán)境影響;真空條件下進(jìn)行沉積,提高獲得沉積物效率,通過控制反應(yīng)氣體流量,從而控制涂層的密度,通過調(diào)節(jié)反應(yīng)室內(nèi)的真空壓力從而有效控制涂層純度。
聲明:
“化學(xué)氣相沉積陶瓷保護(hù)膜反應(yīng)裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)