化學(xué)機(jī)械拋光裝置包括:工作臺(tái),該工作臺(tái)用于支撐拋光墊;承載頭,該承載頭用于將基板的表面固持抵靠在拋光墊上;電機(jī),該電機(jī)用于生成工作臺(tái)與承載頭之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng),以便拋光基板上的上覆層;原位聲學(xué)監(jiān)控系統(tǒng);以及控制器。在一些實(shí)現(xiàn)中,原位聲學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)包括:聲學(xué)信號(hào)發(fā)生器,該聲學(xué)信號(hào)發(fā)生器用于發(fā)射聲學(xué)信號(hào);以及聲學(xué)信號(hào)傳感器,該聲學(xué)信號(hào)傳感器接收從基板的表面反射的聲學(xué)信號(hào)??刂破鞅慌渲脼榛趤碜栽宦晫W(xué)監(jiān)控系統(tǒng)的測(cè)量結(jié)果來檢測(cè)由于對(duì)基板的拋光而導(dǎo)致的下臥層的暴露。
聲明:
“用于化學(xué)機(jī)械拋光的聲學(xué)監(jiān)控和傳感器” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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