本實用新型實施例公開了一種化學(xué)液濃度控制系統(tǒng)和清洗裝置,該化學(xué)液濃度控制系統(tǒng)包括儲液模塊,儲液模塊用于儲存化學(xué)液,化學(xué)液中溶有至少一種化學(xué)品;至少一條化學(xué)品輸送管路,用于向儲液模塊輸送化學(xué)品,化學(xué)品輸送管路上設(shè)置有流量計;濃度測量模塊,用于測量化學(xué)液的濃度;流量控制模塊,流量控制模塊分別與流量計、濃度測量模塊連接,用于根據(jù)流量計測得的當(dāng)前流量數(shù)據(jù)、濃度測量模塊測得的當(dāng)前濃度數(shù)據(jù)和目標(biāo)濃度控制化學(xué)品輸送管路的流量。本實用新型實施例通過流量控制模塊根據(jù)當(dāng)前流量數(shù)據(jù)、當(dāng)前濃度數(shù)據(jù)和目標(biāo)濃度控制化學(xué)品輸送管路的流量以使清洗晶片的化學(xué)液始終維持在目標(biāo)濃度,進而保證對晶片完全且適度清洗。
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“化學(xué)液濃度控制系統(tǒng)和清洗裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)