本實(shí)用新型公開(kāi)了一種超小接觸角值的測(cè)量所需采用的光學(xué)處理裝置,屬于界面化學(xué)分析測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域。它包括包括光學(xué)機(jī)構(gòu)、測(cè)樣機(jī)構(gòu)和成像裝置。本實(shí)用新型有效地降低了小接觸角液滴時(shí)的背景光漫反射導(dǎo)致的無(wú)法有效成像或液滴邊緣輪廓不清晰的問(wèn)題;同時(shí),由于在樣品臺(tái)和成像系統(tǒng)中均采用了微米級(jí)的二維水平調(diào)整機(jī)構(gòu),也有效的解決了背景光擋光或液滴整體被擋的問(wèn)題,從而實(shí)現(xiàn)了可以高精度、方便地測(cè)量小接觸角的目的,為半導(dǎo)體、晶圓、空調(diào)器等高精密行業(yè)測(cè)試小接觸角值提供了可能,也大大提升了測(cè)值的精度和可靠度,測(cè)值精度高,操作方便,具有非常高的推廣價(jià)值。
聲明:
“超小接觸角值的測(cè)量所需采用的光學(xué)處理裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)