本發(fā)明涉及一種用于制造單晶硅片絨面的加熱裝置和方法,所述加熱裝置包括電源端、開(kāi)關(guān)和設(shè)置在處理水池中的數(shù)個(gè)加熱管,所述加熱裝置還包括移相調(diào)壓模塊和溫度控制器,所述移相調(diào)壓模塊通過(guò)所述開(kāi)關(guān)與電源端相連,所述溫度控制器上的溫度傳感器設(shè)置于所述處理水池中,用于檢測(cè)所述處理水池中的水溫,所述溫度控制器將所述溫度傳感器測(cè)得的水溫模擬值轉(zhuǎn)變成水溫?cái)?shù)字值并計(jì)算所述水溫?cái)?shù)字值對(duì)應(yīng)的電流值,輸出所述電流值至所述移相調(diào)壓模塊,所述移相調(diào)壓模塊計(jì)算所述電流值對(duì)應(yīng)的電壓值并輸出所述電壓值大小的電壓至每個(gè)加熱管中。本發(fā)明還提出一種利用上述加熱裝置進(jìn)行硅片絨面制造的方法。利用本發(fā)明的加熱裝置及制造方法,可以穩(wěn)定控制水溫,顯著提高整個(gè)處理水池溫度的均勻性,提高硅片表面制絨質(zhì)量,并降低制絨時(shí)間及節(jié)省化學(xué)溶液的使用量。