本發(fā)明涉及一種物理氣相沉積中鈦或氮化鈦顆??仄氖褂梅椒?,包括:步驟A:提供作為控片的晶圓片;步驟B:在所述晶圓片的表面形成氧化層;步驟C:在所述氧化層上進行物理氣象沉積,以檢測鈦或氮化鈦顆粒質(zhì)量;步驟D:檢測完成后,采用鎢化學機械研磨方式去除鈦薄膜或氮化鈦薄膜及部分氧化層;其中,研磨去除的氧化層的厚度不超過生長的氧化層的厚度;步驟E:在下一次檢測中,使用研磨后的晶圓片重復步驟C和步驟D;步驟F:當經(jīng)過多次檢測氧化層被完全消耗掉后,重復執(zhí)行步驟B至步驟E。上述方法,控片的回收率更高,能夠使控片重復使用的次數(shù)更高,降低控片的使用成本。
聲明:
“物理氣相沉積中鈦或氮化鈦顆粒控片的使用方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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