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共聚焦顯微紅外調(diào)制光致發(fā)光譜實(shí)驗(yàn)裝置及測試方法

1031   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:58:28
本發(fā)明公開一種共聚焦顯微紅外調(diào)制光致發(fā)光譜實(shí)驗(yàn)裝置及測試方法。裝置包括泵浦激光及其方向穩(wěn)控與準(zhǔn)直模塊、反射物鏡激光聚焦與紅外信號收集模塊、低/變溫載物臺、亞微米級分辨的六維電控位移臺、準(zhǔn)實(shí)時(shí)影像監(jiān)測模塊、步進(jìn)掃描邁克爾遜干涉儀、幅值調(diào)制與相敏檢測模塊以及計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)?;谏鲜鲅b置,本發(fā)明進(jìn)一步提出實(shí)現(xiàn)覆蓋3?20微米寬波段的共聚焦顯微紅外調(diào)制光致發(fā)光光譜測試方法。本發(fā)明是一種檢測窄禁帶材料微區(qū)光學(xué)性質(zhì)和電子能帶結(jié)構(gòu)的光譜學(xué)成像測試裝置和方法,具有無損非接觸、長波長、寬波段、高空間分辨和高譜分辨能力等優(yōu)點(diǎn),非常適用于包括窄禁帶半導(dǎo)體等紅外光電子材料在內(nèi)的微結(jié)構(gòu)光學(xué)性質(zhì)檢測和光電子顯微分析。
聲明:
“共聚焦顯微紅外調(diào)制光致發(fā)光譜實(shí)驗(yàn)裝置及測試方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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