本發(fā)明公開了一種失效分析中分析晶格缺陷的TEM樣品制備新方法。該方法使用手動研磨代替聚焦離子束來制備TEM樣品,使樣品中的晶格缺陷在極小或極淺的情況下均能被發(fā)現(xiàn),而且不受晶格缺陷的方向的影響。極大地促進了晶格缺陷的發(fā)現(xiàn)與觀測,準確率高,對TEM樣品的制備的研究具有重要意義。
聲明:
“失效分析中分析晶格缺陷的TEM樣品制備新方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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