鉑/鈀真空加壓鑄造設(shè)備 356     

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鉑/鈀真空加壓鑄造設(shè)備是一款專用于貴金屬首飾制造的先進(jìn)設(shè)備，采用德國高周波加熱技術(shù)，結(jié)合頻率自動(dòng)追蹤和多重保護(hù)功能，實(shí)現(xiàn)快速熔解，節(jié)能環(huán)保且效率高。設(shè)備配備密閉式真空/惰性氣體保護(hù)熔煉室，有效防止金屬氧化和雜質(zhì)混入，同時(shí)支持熔化與抽真空同步進(jìn)行，顯著提升生產(chǎn)效率。惰性氣體環(huán)境下熔煉，碳質(zhì)坩堝損耗極低，電磁攪拌功能確保成色均勻無偏析。設(shè)備搭載Mistake Proofing（防呆）自動(dòng)控制系統(tǒng)和PID精準(zhǔn)溫控系統(tǒng)（精度±1℃），操作簡(jiǎn)便，溫度控制精準(zhǔn)。

振動(dòng)真空加壓鑄造設(shè)備 261     

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振動(dòng)真空加壓鑄造設(shè)備是一種先進(jìn)高效的鑄造解決方案。該設(shè)備具備振動(dòng)功能，可顯著改善鑄件的成色均勻性，避免成分偏析，同時(shí)優(yōu)化物料流動(dòng)性，使晶粒尺寸減少多達(dá)50%。其優(yōu)勢(shì)在于降低孔隙率，提高鑄件密度和穩(wěn)定性，從而減少后處理工作量和損耗。振動(dòng)功能還能降低熱裂風(fēng)險(xiǎn)，改善模具填充效果，使材料結(jié)構(gòu)更加致密，提升抗拉強(qiáng)度和彈性達(dá)25%，顯著優(yōu)化后續(xù)加工性能。

真空加壓鑄造設(shè)備 273     

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真空加壓鑄造設(shè)備是一款專用于K金等貴金屬的高效鑄造設(shè)備，采用原裝進(jìn)口技術(shù)，確保高質(zhì)量生產(chǎn)。設(shè)備配備智能控制系統(tǒng)，極簡(jiǎn)界面易于操作，新手也能快速上手。電磁感應(yīng)式加熱技術(shù)實(shí)現(xiàn)快速加熱與均勻成色，PID精準(zhǔn)溫控系統(tǒng)（精度±1℃）確保低功率運(yùn)行、抗干擾能力強(qiáng)且響應(yīng)迅速。大部分配件采用國際知名品牌，保障設(shè)備穩(wěn)定性和耐用性，是貴金屬鑄造領(lǐng)域的理想選擇。

高真空連續(xù)鑄造設(shè)備 266     

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高真空連續(xù)鑄造設(shè)備是專用于鍵合金、銀絲、銅絲等高純度金屬及合金線材鑄造的先進(jìn)設(shè)備。它采用德國高周波加熱技術(shù)，頻率自動(dòng)追蹤及多重保護(hù)，熔煉速度快，節(jié)能環(huán)保。設(shè)備配備密閉式惰性氣體保護(hù)熔煉室，有效防止金屬氧化和雜質(zhì)混入，同時(shí)結(jié)合電磁攪拌和機(jī)械攪拌功能，確保成色均勻無偏析。采用Mistake Proofing（防呆）自動(dòng)控制系統(tǒng)和PID溫度控制系統(tǒng)（精度±1℃），操作簡(jiǎn)便，溫度控制精準(zhǔn)。自主研發(fā)的TAKJ-HVCC1/HVCC30設(shè)備，結(jié)合三菱PLC程控系統(tǒng)、SMC氣動(dòng)和松下伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)等知名品牌元器件，確保設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

真空智能連續(xù)鑄造設(shè)備 260     

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真空智能連續(xù)鑄造設(shè)備是一款專用于黃金、K金、銀等貴金屬板材、圓形管材和矩形棒材生產(chǎn)的先進(jìn)設(shè)備。它采用惰性氣體保護(hù)熔煉技術(shù)，配備電磁感應(yīng)式加熱，2-3分鐘即可完成一爐熔煉，加熱速度快且效率高。設(shè)備搭載智能控制系統(tǒng)，極簡(jiǎn)界面易于操作，新手也能快速上手。配備PID精準(zhǔn)溫控系統(tǒng)，溫度精度可達(dá)±1℃，低功率運(yùn)行，抗干擾能力強(qiáng)。大部分配件采用國際知名品牌，確保設(shè)備質(zhì)量可靠，是貴金屬連續(xù)鑄造的理想選擇。

真空感應(yīng)燒結(jié)爐 256     

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真空感應(yīng)燒結(jié)爐是指供粉末冶金件燒結(jié)用的真空感應(yīng)爐真空感應(yīng)燒結(jié)爐的設(shè)備組成與坩堝式無心感應(yīng)熔煉爐類似。爐體一般做成井式或罩式，并式爐結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，罩式爐便于裝卸工件。護(hù)體由爐殼、感應(yīng)器、石墨簡(jiǎn)、工件托架、供電裝置、絕熱層、水冷系統(tǒng)、通氣系統(tǒng)等部分組成，爐殼上設(shè)有測(cè)溫裝置、觀察裝置等。

真空水平連鑄機(jī) 255     

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萬峰真空水平連鑄機(jī)生產(chǎn)線具備顯著特點(diǎn)與優(yōu)勢(shì)。其嚴(yán)格控制溫度和合金成分，配備電磁攪拌和強(qiáng)大的真空脫氣能力，可在真空條件下熔煉和拉鑄高級(jí)精密合金及有色金屬。IGBT中頻電源加熱速度快、節(jié)能環(huán)保，采用全橋整流器，運(yùn)行穩(wěn)定，具備多種預(yù)警保護(hù)功能，且電磁振動(dòng)和噪音低。保溫爐及結(jié)晶器采用真空/氣氛保護(hù)，配備完善的密封措施和高精度定位裝置。引鑄系統(tǒng)可定制，拉速可調(diào)，能滿足多種連鑄需求。自動(dòng)收卷機(jī)與連鑄機(jī)同步運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)高效自動(dòng)化生產(chǎn)。

Rotary Retort 回轉(zhuǎn)爐 203     

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回轉(zhuǎn)爐旨在提高產(chǎn)量，并保持高性能小零件（如軸承和緊固件）熱處理的均勻性和淬火性能。該設(shè)備生產(chǎn)靈活性高，可用于單一或多種應(yīng)用的生產(chǎn)環(huán)境，可用于小批量或大批量生產(chǎn)。與傳統(tǒng)的網(wǎng)帶爐或批次系統(tǒng)相比，回轉(zhuǎn)爐在日常維護(hù)和運(yùn)行成本相對(duì)較低。

真空鑄造設(shè)備 264     

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真空鑄造設(shè)備用于生產(chǎn)高質(zhì)量定向凝固和單晶鑄件的真空感應(yīng)熔煉爐。創(chuàng)新的JetCaster技術(shù)為鎳和鈷基高溫合金的單晶鑄造領(lǐng)域開辟了新的可能性。研發(fā)工程師在開發(fā)單晶鑄件新技術(shù)上研究多年的多年工作使我們能夠創(chuàng)造出一種配備超音速氬流的鑄件冷卻系統(tǒng)的裝置。

高壓氣淬真空爐 366     

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Vector是一款氣體淬火單室真空爐，可用于多種熱處理工藝和應(yīng)用。通過該設(shè)備處理的工件具有較高的均勻性和一致性，在批量加工時(shí)運(yùn)行速度快。同時(shí)電能和工藝氣體的消耗非常低。

三室真空爐 257     

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與雙室爐和單室爐相反，在三室爐中，裝料后以半連續(xù)模式逐個(gè)通過每個(gè)腔室。整個(gè)設(shè)備可同時(shí)裝載三個(gè)批次（每個(gè)腔室一個(gè)批次），爐子的工藝周期由三室中最長(zhǎng)周期決定（通常在工藝室）。與雙室爐相比，三室爐的產(chǎn)量可提升兩倍。

真空熔煉爐 270     

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真空熔煉爐是一種用于特種金屬（如特鋼、銅合金、輕金屬等）熔煉與澆鑄的先進(jìn)設(shè)備，由中頻電源、雙層水冷爐體、真空機(jī)組、液壓翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、機(jī)械攪拌裝置等組成。其工藝是在真空環(huán)境下通過中頻感應(yīng)加熱將金屬熔化，再經(jīng)液壓傾爐、澆鑄流槽澆入錠模冷卻成型。該設(shè)備采用新型中頻電源設(shè)計(jì)，優(yōu)化線圈絕緣和爐內(nèi)結(jié)構(gòu)，降低諧振電流，杜絕放電現(xiàn)象，減少漏水風(fēng)險(xiǎn)，配備智能一體化控制系統(tǒng)，操作簡(jiǎn)便且維護(hù)方便，廣泛應(yīng)用于特種金屬的高質(zhì)量熔煉生產(chǎn)。

超高真空退火爐 343     

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超高真空退火爐是專為金屬薄膜和金屬絲的退火與還原處理等熱處理工藝實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的設(shè)備，具備極限真空8x10??Pa和工作真空8x10??Pa（在1000℃退火溫度下）的性能指標(biāo)，確保在高溫下維持高真空環(huán)境。該爐采用中400x400(mm)立式柱狀雙水冷不銹鋼結(jié)構(gòu)，能夠?qū)崿F(xiàn)常溫至1500℃的溫度變化范圍，具備程序控溫和高精度控溫能力，均溫區(qū)尺寸為Ф80x120(mm)。系統(tǒng)由真空抽氣機(jī)組、真空室、測(cè)量系統(tǒng)、加熱控溫系統(tǒng)、電動(dòng)升降系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、液氮冷阱及臺(tái)架等組成，并通過計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)控制，滿足長(zhǎng)時(shí)間高溫處理需求。

臥式真空退火爐 342     

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TH-1000臥式真空退火爐專為高溫合金的光亮退火和真空除氣設(shè)計(jì)，具備5x10??Pa的極限真空度和Ф200x1100(mm)的真空室結(jié)構(gòu)，確保高效處理。最高加熱溫度可達(dá)1000℃，均溫區(qū)Ф150x600(mm)內(nèi)溫度偏差小于±2℃，加熱至850℃僅需不到2小時(shí)。設(shè)備采用外加熱方式，配備多路熱電偶以維持精確的溫度控制。主要由真空室、測(cè)量、抽氣、加熱及電控系統(tǒng)組成，滿足高精度熱處理需求。

真空退火爐 262     

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真空退火爐是一種臥式結(jié)構(gòu)的高效熱處理設(shè)備，具備不銹鋼雙層水冷真空爐體和前門觀察窗。其系統(tǒng)空載極限真空度可達(dá)≤8x10??Pa，工作真空度在800℃時(shí)保持≤1x10?3Pa，泄漏率不大于1x10??Pa/L·s。分子泵能在30分鐘內(nèi)將真空度降至1x10?3Pa，壓升率控制在0.67Pa/h以內(nèi)。最高加熱溫度可達(dá)1300℃，工作爐溫范圍為600℃至1250℃，溫度均勻性為±4℃，測(cè)溫精度±1℃，升溫速度和降溫速率可控。該設(shè)備采用導(dǎo)電智能控溫表，確保精確的溫度控制。

高真空管式氮化爐 280     

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高真空管式氮化爐是一種臥式管式外加熱爐，集成了抽氣系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)，安裝在可移動(dòng)臺(tái)架上，便于操作。該爐具備出色的真空性能，系統(tǒng)極限真空度可達(dá)7×10??Pa，工作真空度為5×10?3Pa，漏率僅為1×10??Pa·L/s。加熱溫度范圍從室溫至450℃，樣品表面溫度可達(dá)250℃，均勻區(qū)軸向長(zhǎng)度250mm，控溫精度為±10℃。配備5KW偏壓電源，電壓最大2kV，脈沖頻率40~60KHz可調(diào)，并具有多重保護(hù)功能。手套箱設(shè)計(jì)便于樣品處理，氣路系統(tǒng)可控制N?、Ar氣體流量，整個(gè)系統(tǒng)還配有冷卻循環(huán)水裝置和斷水?dāng)嚯娐?lián)鎖保護(hù)，確保安全穩(wěn)定運(yùn)行。

高真空加熱裝置 236     

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高真空加熱裝置是一種先進(jìn)的材料處理設(shè)備，具備優(yōu)異的真空性能，極限真空度可達(dá)<6.7x10??Pa，漏率優(yōu)于1.0x10??Pa·L/s，采用分子泵+干泵的抽氣機(jī)組，提供快抽和慢抽兩種方式。裝置配備316L不銹鋼制成的真空罐體，內(nèi)部尺寸至少為直徑中50mmx100mm，加熱爐內(nèi)最高加熱溫度達(dá)800℃，控溫精度為±1℃，且外殼溫度低于200℃。此外，裝置還具備氙氣循環(huán)降溫系統(tǒng)，保護(hù)罐體密封口，以及包含真空機(jī)組控制、真空度和溫度顯示及系統(tǒng)聯(lián)鎖保護(hù)功能的電控系統(tǒng)。

專用高溫真空熱處理爐 264     

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該真空管式爐具備優(yōu)異的真空性能，系統(tǒng)極限真空度可達(dá)到優(yōu)于3.0×10??Pa，而系統(tǒng)漏率僅為1.0×10??Pa·L/s，這保證了爐內(nèi)能夠在極低的氣壓下進(jìn)行高溫處理，適合對(duì)材料進(jìn)行精密的熱處理工藝。這些真空指標(biāo)對(duì)于確保材料處理過程中的高質(zhì)量和高純度至關(guān)重要，如陶瓷基板的退火和真空燒結(jié)等應(yīng)用。

真空管式爐 237     

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TAZKS-1100型真空管式爐由沈陽騰蓄真空技術(shù)有限公司生產(chǎn)，是一種用于微波基板生產(chǎn)的設(shè)備。它主要由抽氣系統(tǒng)、石英管組件、過渡室系統(tǒng)、加熱爐系統(tǒng)、樣品架系統(tǒng)和電控系統(tǒng)組成，具備陶瓷基板退火處理和真空燒結(jié)的功能。

高溫高真空試驗(yàn)爐 255     

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高溫高真空試驗(yàn)爐是一種用于高溫真空環(huán)境下的材料性能測(cè)試設(shè)備，具備以下特點(diǎn)：在1700K工作溫度下，爐膛內(nèi)真空度優(yōu)于1.0×10??Pa，真空計(jì)測(cè)量范圍寬廣（5.0×10??Pa~1.0×10?Pa）。設(shè)備設(shè)計(jì)滿足長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作溫度不低于1500℃，最高可達(dá)1550℃，樣品區(qū)域溫度均勻性在1200K~1700K范圍內(nèi)優(yōu)于±3K。爐膛有效加熱空間覆蓋樣品旋轉(zhuǎn)空間（約Ф300mm×200mm），開門尺寸滿足樣品架的取放和安裝。真空腔體外表溫度控制在不高于60℃。

磁場(chǎng)增強(qiáng)真空蒸餾爐 337     

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磁場(chǎng)增強(qiáng)蒸餾提純爐是一種先進(jìn)的高純度金屬提純?cè)O(shè)備，專門用于對(duì)鈹金屬進(jìn)行高精度的蒸餾提純。該設(shè)備通過獨(dú)特的設(shè)計(jì)和工藝，能夠有效去除鐵磁性雜質(zhì)，提高金屬的純度，滿足高精度應(yīng)用的需求。

鈹真空熔煉蒸餾提純爐 335     

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鈹真空熔煉蒸餾提純爐是一種專門用于鈹金屬提純的設(shè)備，采用中頻感應(yīng)加熱技術(shù)，在真空環(huán)境中對(duì)鈹金屬進(jìn)行熔煉和蒸餾。通過坩堝口上方的水冷收集器，蒸餾后的高純度鈹金屬得以收集，實(shí)現(xiàn)高效提純。該設(shè)備一次蒸餾量可達(dá)3000克，具備工業(yè)化生產(chǎn)規(guī)模，操作簡(jiǎn)便，且坩堝檢查、冷凝器拆裝及腔體清理均十分方便，適合大規(guī)模生產(chǎn)高純度鈹金屬。

立式真空爐 465     

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立式真空爐是一種在真空環(huán)境下對(duì)材料進(jìn)行高溫處理的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于金屬熱處理、陶瓷燒結(jié)、粉末冶金、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。

預(yù)抽真空淬火爐 257     

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預(yù)抽真空淬火爐是一種先進(jìn)的熱處理設(shè)備，廣泛應(yīng)用于金屬材料的淬火處理，尤其適用于對(duì)表面質(zhì)量、機(jī)械性能和精度要求較高的工件。

二次加料真空熔煉爐 255     

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二次加料真空熔煉爐采用德國原裝IGBT變頻及功率調(diào)節(jié)，可連續(xù)24小時(shí)滿負(fù)載工作，配備西門子PCL控制系統(tǒng)，確保穩(wěn)定、高效和智能化操作。設(shè)備最高溫度可達(dá)2600℃，最快2分鐘溶解一爐，適合多種金屬熔煉。機(jī)箱密封性高，支持真空及惰性氣體保護(hù)，增加材料密度并降低損耗率。特設(shè)機(jī)械攪拌功能，適合高均勻度合金熔解，還可進(jìn)行真空狀態(tài)下的二次加料，滿足特殊加料需求。

1600℃電磁感應(yīng)加熱真空鑄錠機(jī) 364     

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1600℃電磁感應(yīng)加熱真空鑄錠機(jī)（一出四塊，4kg）可定制，專為鑄造高質(zhì)量金條、金錠、銀錠等設(shè)計(jì)，一次可鑄造4塊1kg金錠或一個(gè)15kg金條。設(shè)備在真空條件下操作，完全隔絕火焰，消除成品表面波紋，防止氧化，確保無貴金屬損失，實(shí)現(xiàn)無氧化、無波紋的高質(zhì)量鑄造效果。

2600℃電磁感應(yīng)加熱真空熔煉爐 243     

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采用IGBt變頻及功率調(diào)節(jié)，滿足連續(xù)24小時(shí)滿負(fù)負(fù)載工作 快速溶解多種金屬，最高溫度可達(dá)2600度，最快兩分鐘溶解一爐，380V三相國標(biāo)5線電源線安全可靠，高穩(wěn)定的加熱系統(tǒng)及可靠的質(zhì)檢保護(hù)功能，使得整臺(tái)設(shè)備更加經(jīng)久耐用，在真空和惰性氣體保護(hù)下，完美的解決了熔煉金塊或銀塊中金屬被氧化，金屬收縮形狀不規(guī)則的波紋等問題。

1400℃開啟式真空管式爐 261     

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1400℃開啟式真空管式爐采用氧化鋁多晶纖維固化爐膛，工作溫度區(qū)間可根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求選配電阻絲、硅碳棒或硅鉬棒加熱，配備程序控溫系統(tǒng)。爐管兩端采用不銹鋼法蘭密封，支持抽真空和通氣氛，爐膛結(jié)構(gòu)可選開啟式或封閉式。該設(shè)備適用于大專院校、科研院所及企事業(yè)單位研發(fā)中心的材料高溫?zé)Y(jié)、研發(fā)與低溫處理，以及小批量生產(chǎn)，支持精細(xì)氣氛控制，可通保護(hù)氣體和弱還原性氣體，具備燒結(jié)速度快、效率高、應(yīng)用范圍廣等特點(diǎn)。

小型熔融真空管式爐 241     

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小型熔融真空管式爐采用氧化鋁多晶纖維固化爐膛，工作溫度范圍100℃至1600℃，配備程序控溫系統(tǒng)。爐管兩端采用不銹鋼法蘭密封，法蘭上可選配石英觀察窗，便于觀察固體在高溫下雜質(zhì)的熔融過程。該設(shè)備適用于大專院校、科研院所及企事業(yè)單位研發(fā)中心實(shí)驗(yàn)室的教學(xué)與研究分析。

三溫區(qū)立式真空管式爐 309     

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三溫區(qū)立式真空管式爐采用立式結(jié)構(gòu)，側(cè)面可打開爐膛，爐管兩端采用不銹鋼法蘭密封，配備氣嘴、閥門和壓力表，可連接不同真空系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)多種真空效果。設(shè)備三路單獨(dú)控溫，可根據(jù)試樣要求梯度控溫，溫場(chǎng)均勻。爐管固定于支撐架上，使用方便，操作簡(jiǎn)單，具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)。適用于大專院校、科研院所和企事業(yè)技術(shù)研發(fā)中心的材料高溫?zé)Y(jié)、研發(fā)與低溫處理，以及小批量生產(chǎn)，可提供精細(xì)氣氛控制，支持通保護(hù)氣體和弱還原性氣體，具備燒結(jié)速度快、效率高、應(yīng)用范圍廣等特點(diǎn)。