本發(fā)明涉及一種高溫
復(fù)合材料抗氧化、低發(fā)射率涂層及制備方法和應(yīng)用,該涂層依據(jù)熱膨脹系數(shù)漸變匹配原則設(shè)計(jì),從內(nèi)至外依次由過(guò)渡層、氧阻隔層、低發(fā)射率功能層以及表層保護(hù)膜組成。所述過(guò)渡層為與基底熱膨脹系數(shù)接近SiC陶瓷,所述氧阻隔層為具有抗氧化性能莫來(lái)石?玻璃粉復(fù)合涂層,所述低發(fā)射率功能涂層為具有低發(fā)射率的耐高溫金屬I(mǎi)r薄膜,所述表層保護(hù)膜為耐高溫高紅外透過(guò)率的SiO2薄膜。本發(fā)明制備的高溫復(fù)合材料抗氧化、低發(fā)射率涂層大幅度提升了Ir薄膜在高溫下的使用性能和使用壽命,紅外隱身性能優(yōu)異、抗氧化性強(qiáng),可在1200℃高溫下服役。
聲明:
“高溫復(fù)合材料抗氧化、低發(fā)射率涂層及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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