本發(fā)明公開了一種用于高光免噴涂PMMA的耐刮擦劑及其制備方法,該用于高光免噴涂PMMA的耐刮擦劑包括以下組分:納米二氧化鋯40~70份;改性聚硅氧烷10~30份;長鏈烷基聚硅氧烷20~50份。本發(fā)明還公開了一種耐刮擦PMMA
復(fù)合材料。該耐刮擦劑可有效改善PMMA表面的耐刮擦性能,且長效穩(wěn)定性高,使制件保持長久優(yōu)異的表面光澤度,另外可以有效提高PMMA的脫模等其他綜合性能。
聲明:
“用于高光免噴涂PMMA的耐刮擦劑及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)