本發(fā)明涉及一種波導(dǎo)及其制作方法,屬于光器件領(lǐng)域,具體涉及一種高偏振消光比鈮酸鋰波導(dǎo)及其制作方法。本發(fā)明在鈮酸鋰光波導(dǎo)
芯片進(jìn)行質(zhì)子交換前對其下表面進(jìn)行涂覆保護(hù),使得鈮酸鋰基片下表面無質(zhì)子交換發(fā)生,這樣便可以輔助開槽、制作光柵以及涂覆吸光層等方法,降低TM漏模(或TE漏模)耦合進(jìn)入輸出光纖,提高鈮酸鋰波導(dǎo)的TE/TM偏振消光比。
聲明:
“高偏振消光比鈮酸鋰波導(dǎo)及其制作方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)