本發(fā)明公開(kāi)了一種激光誘導(dǎo)CVD裝置，包括真空腔體，抽氣系統(tǒng)，真空計(jì)，氣體輸運(yùn)系統(tǒng)以及激光器。真空腔體是化學(xué)反應(yīng)發(fā)生的場(chǎng)所，氣體輸運(yùn)系統(tǒng)把發(fā)生反應(yīng)的物質(zhì)輸送到真空腔內(nèi)，激光給化學(xué)反應(yīng)的發(fā)生提供能源，抽氣系統(tǒng)保證化學(xué)反應(yīng)的真空環(huán)境，真空計(jì)測(cè)試腔體的真空度。其中的氣體輸運(yùn)系統(tǒng)采用脈沖進(jìn)氣和特殊的管道口設(shè)計(jì)，特殊的管道口設(shè)計(jì)保證了氣體以一定流量均勻的進(jìn)入真空腔體，配合優(yōu)化的氣體流量和真空度可實(shí)現(xiàn)氣體以分子流的方式進(jìn)入真空腔體，脈沖進(jìn)氣可進(jìn)一步的實(shí)現(xiàn)氣體的精確控制。本發(fā)明通過(guò)脈沖進(jìn)氣和特殊管道口的設(shè)計(jì)，在激光的作用下可實(shí)現(xiàn)聚合物的單分子層化學(xué)氣相沉積。