半連續(xù)真空熔煉爐 238     

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半連續(xù)真空熔煉爐是一種在真空環(huán)境下進(jìn)行金屬熔煉的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于冶金領(lǐng)域，特別是在高純金屬材料的制備和特種合金的生產(chǎn)中。

真空熔鑄爐 234     

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真空熔鑄爐是一種在真空或保護(hù)氣氛下進(jìn)行金屬熔煉和合金化的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于冶金、材料科學(xué)及特種合金的生產(chǎn)。其核心功能包括高純金屬的熔煉、合金化處理以及精煉。在真空環(huán)境中，物質(zhì)與殘余氣體的化學(xué)作用極弱，這使得真空熔鑄爐特別適合用于黑色金屬、稀有金屬、超純金屬及其合金的熔煉。此外，真空熔鑄爐還可通過降低氣體分壓實(shí)現(xiàn)鋼液脫氣精煉，適用于高溫、超高溫難熔合金的熔煉。

齒輪箱箱體 132     

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在冶金行業(yè)中，齒輪箱是關(guān)鍵的傳動(dòng)部件，其性能直接影響生產(chǎn)設(shè)備的運(yùn)行效率和穩(wěn)定性。川鼎科技憑借其在非標(biāo)設(shè)備制造領(lǐng)域的專業(yè)能力，為冶金企業(yè)提供定制化的齒輪箱箱體及相關(guān)設(shè)備。公司生產(chǎn)的齒輪箱箱體具有高剛性、大扭矩傳遞能力和良好的密封性能，能夠滿足軋機(jī)、轉(zhuǎn)爐傾動(dòng)裝置、飛剪機(jī)等設(shè)備的特殊需求。通過與客戶的緊密合作，川鼎科技能夠提供從設(shè)計(jì)到制造的一站式服務(wù)，助力冶金企業(yè)優(yōu)化生產(chǎn)流程。

電弧等離子體金屬納米粉制備系統(tǒng)（實(shí)驗(yàn)型） 260     

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在冶金實(shí)驗(yàn)領(lǐng)域，精準(zhǔn)、高效的納米金屬粉體制備是探索新材料性能與工藝的關(guān)鍵。實(shí)驗(yàn)型電弧等離子體金屬納米粉制備系統(tǒng)為冶金研究提供了理想的解決方案。該設(shè)備能夠制備納米級金屬粉體，涵蓋稀土材料在內(nèi)的絕大多數(shù)金屬，且對原材料形貌尺寸無限制，突破了傳統(tǒng)冶金實(shí)驗(yàn)方法的局限。其由高真空獲得與測量系統(tǒng)、粉體制備系統(tǒng)、粉體收集系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)組成，高真空機(jī)組采用復(fù)合分子泵及機(jī)械泵，制備室極限真空度可達(dá)≤5.0×10?3Pa，收集室極限真空度≤8.0×10?3Pa，為冶金實(shí)驗(yàn)中的粉體生成提供穩(wěn)定的真空環(huán)境，確保粉體的純度和質(zhì)量。

電弧等離子體金屬納米粉制備系統(tǒng)（生產(chǎn)型） 258     

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在冶金行業(yè)，納米金屬粉體材料的應(yīng)用前景廣闊，而電弧等離子體金屬納米粉制備系統(tǒng)正是為滿足這一需求而誕生的先進(jìn)生產(chǎn)型設(shè)備。該設(shè)備以卓越的冶金工藝為基礎(chǔ)，能夠高效批量制備納米級金屬粉體材料，涵蓋稀土材料在內(nèi)的絕大多數(shù)金屬，且對原材料形貌尺寸無限制，展現(xiàn)出傳統(tǒng)冶金制備方法難以企及的優(yōu)越性。其高真空獲得與測量系統(tǒng)、粉體制備系統(tǒng)等六大組成部分協(xié)同運(yùn)作，其中高真空機(jī)組采用復(fù)合分子泵、羅茨泵、機(jī)械泵組合，為冶金過程中的粉體生成提供穩(wěn)定的真空環(huán)境，確保粉體質(zhì)量與性能。

冷水機(jī) 151     

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LC350型冷水機(jī)是一款專為工業(yè)應(yīng)用設(shè)計(jì)的循環(huán)冷水機(jī)，包括冶金領(lǐng)域。該設(shè)備以其高效能和穩(wěn)定性能，適用于各種需要精確溫度控制的環(huán)境，如金屬熱處理、焊接、切割以及其他需要冷卻的工藝過程。在冶金行業(yè)中，LC350型冷水機(jī)可用于控制和維持生產(chǎn)過程中所需的恒定水溫，從而確保產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。

高真空熱壓爐 268     

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高真空熱壓爐是冶金領(lǐng)域中一種關(guān)鍵的粉末冶金設(shè)備，專門用于粉體材料的熱壓成型。這種設(shè)備通過在高真空環(huán)境下對粉末材料施加高溫和高壓，實(shí)現(xiàn)材料的致密化和成型，廣泛應(yīng)用于制造高性能的金屬、陶瓷和復(fù)合材料等。高真空熱壓爐的工作原理和精確控制能力使其成為制備先進(jìn)材料的重要工具，尤其在需要材料具有高強(qiáng)度、高硬度和優(yōu)異耐磨性的應(yīng)用中。

放電等離子燒結(jié)系統(tǒng)（SPS） 271     

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放電等離子燒結(jié)系統(tǒng)（SPS）是一種高效的材料制備技術(shù)，它通過在較低溫度下實(shí)現(xiàn)快速燒結(jié)，為致密材料的制備提供了一種新穎的方法。這種系統(tǒng)在材料科學(xué)領(lǐng)域，尤其是在納米技術(shù)、非晶材料、復(fù)合材料和梯度材料的制備中，展現(xiàn)出了巨大的應(yīng)用潛力。SPS技術(shù)的應(yīng)用不僅限于傳統(tǒng)材料的加工，還有可能開發(fā)出性能更加優(yōu)良的新材料。

高真空磁控濺射離子鍍膜設(shè)備 258     

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高真空磁控濺射離子鍍膜設(shè)備是一種在現(xiàn)代冶金和材料科學(xué)領(lǐng)域中不可或缺的先進(jìn)工具。該設(shè)備通過在高真空環(huán)境下進(jìn)行磁控濺射或多弧離子鍍膜，能夠制備出高質(zhì)量的薄膜材料，廣泛應(yīng)用于各種工業(yè)和科研領(lǐng)域。設(shè)備的主要功能包括高真空獲取與測量、樣品或工件的精確放置與運(yùn)動(dòng)控制、磁控靶或多弧源的靈活選擇以及輔助鍍膜工藝的集成。

高真空脈沖激光沉積系統(tǒng) 156     

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高真空脈沖激光沉積系統(tǒng)（PLD）是冶金和材料科學(xué)領(lǐng)域中一種先進(jìn)的薄膜沉積技術(shù)。它通過使用高能脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜，特別適用于制備復(fù)雜氧化物、陶瓷和半導(dǎo)體材料等。PLD技術(shù)的獨(dú)特之處在于能量源（脈沖激光）位于真空室外部，這使得在材料合成時(shí)，工作壓力的動(dòng)態(tài)范圍非常寬，能夠達(dá)到10^-8Pa至1Pa，從而為合成具有獨(dú)特功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒提供了可能。

化學(xué)氣相沉積 370     

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化學(xué)氣相沉積（CVD）是一種在冶金和材料工程中廣泛應(yīng)用的技術(shù)，它通過在高溫下將氣態(tài)物質(zhì)轉(zhuǎn)化為固態(tài)薄膜，用于制造各種高性能材料。CVD技術(shù)在冶金行業(yè)中主要用于制備高純度、高性能的金屬和陶瓷涂層，這些涂層可以顯著提高材料的耐磨性、耐腐蝕性和高溫穩(wěn)定性。

高真空電子束熱蒸發(fā)系統(tǒng) 243     

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高真空電子束熱蒸發(fā)系統(tǒng)（E-Beam）是冶金和材料科學(xué)領(lǐng)域中一種精密的真空鍍膜設(shè)備。該系統(tǒng)利用電子束蒸發(fā)源技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)高效率和高精度的材料蒸發(fā)與沉積，適用于制備各種金屬、合金以及化合物薄膜。在冶金行業(yè)中，這種系統(tǒng)特別適用于高性能材料的制備，如高溫合金、磁性材料、光學(xué)涂層和電子材料等。

高真空電阻熱蒸發(fā)系統(tǒng) 241     

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高真空電阻熱蒸發(fā)系統(tǒng)是一種專為冶金和材料科學(xué)領(lǐng)域設(shè)計(jì)的先進(jìn)設(shè)備，它在高真空環(huán)境下進(jìn)行材料的蒸發(fā)和沉積，廣泛應(yīng)用于制備薄膜、納米材料以及進(jìn)行材料表面改性等。該系統(tǒng)由高真空獲得與測量系統(tǒng)、樣品臺或工件轉(zhuǎn)架系統(tǒng)、有機(jī)（OLED）/金屬蒸發(fā)源系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)等四部分組成，確保了蒸發(fā)過程的精確控制和高效進(jìn)行。

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD 239     

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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）是一種在冶金和材料科學(xué)領(lǐng)域廣泛應(yīng)用的技術(shù)，它通過利用等離子體的活性來增強(qiáng)化學(xué)反應(yīng)速率，實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量薄膜的沉積。這種設(shè)備在制備高性能的金屬和非金屬薄膜方面具有重要作用，尤其是在需要精確控制膜厚、成分和結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中。

高真空管式電阻爐 238     

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高真空管式電阻爐是冶金領(lǐng)域中一種專門用于材料高溫處理的設(shè)備，它能夠在高真空環(huán)境下對材料進(jìn)行燒結(jié)、退火等熱處理過程。這種設(shè)備對于需要在無氧或低氧環(huán)境中進(jìn)行熱處理的材料尤為重要，比如在鈦合金、不銹鋼和其他特種金屬的生產(chǎn)中，高真空環(huán)境可以防止材料氧化，確保材料性能。

高真空電弧熔煉系統(tǒng) 241     

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高真空電弧熔煉系統(tǒng)是一種先進(jìn)的冶金設(shè)備，它主要用于制備材質(zhì)均勻的合金母材或金屬熔錠。該系統(tǒng)由高真空獲得與測量系統(tǒng)、電弧熔煉系統(tǒng)、電磁攪拌系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)等四部分組成，確保了在高真空環(huán)境下進(jìn)行電弧熔煉的高效性和穩(wěn)定性。高真空機(jī)組采用分子泵及機(jī)械泵組成，能夠達(dá)到極限真空度≤6.7×10^-5Pa，漏率≤10^-7 Pa?L/s，為熔煉過程提供了理想的高真空環(huán)境。電弧熔煉系統(tǒng)采用優(yōu)質(zhì)弧焊電源，高頻起弧，鎢極與材料不接觸，無污染，確保了熔煉過程的純凈性。

高真空無坩堝氣霧化制粉系統(tǒng)（鈦合金專用） 247     

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高真空無坩堝氣霧化制粉系統(tǒng)（鈦合金專用）是一種為鈦合金粉末制備專門設(shè)計(jì)的先進(jìn)冶金設(shè)備。該系統(tǒng)采用高真空環(huán)境進(jìn)行無坩堝氣霧化制粉，有效避免了坩堝材料對金屬熔體的污染，從而保證了鈦合金粉末的高純度和優(yōu)良性能。這對于航空航天、船舶工程和特殊環(huán)境領(lǐng)域中使用的高溫合金粉末制備尤為重要，因?yàn)檫@些領(lǐng)域?qū)Σ牧系目篃岣g性、抗氧化性、高溫穩(wěn)定性和結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性有著極高的要求。

高真空單輥旋淬設(shè)備 249     

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高真空單輥旋淬設(shè)備是一種集感應(yīng)熔煉及甩帶于一體的多功能高真空科學(xué)儀器，它在冶金領(lǐng)域中具有重要的應(yīng)用價(jià)值。該設(shè)備具備制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能，特別適用于各種非晶及微晶材料的研究及實(shí)驗(yàn)工作。它被廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學(xué)的開發(fā)與研究，對于推動(dòng)冶金科技進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)升級具有重要意義。

高真空噴鑄設(shè)備 243     

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高真空噴鑄設(shè)備是冶金領(lǐng)域中一種專門用于制備非晶塊體材料的先進(jìn)裝置。這種設(shè)備通過在高真空環(huán)境下進(jìn)行熔煉和噴鑄，能夠生產(chǎn)出具有獨(dú)特物理和化學(xué)性質(zhì)的非晶材料，這些材料在磁性、強(qiáng)度和耐腐蝕性方面往往優(yōu)于傳統(tǒng)晶體材料。

金屬納米粉蒸發(fā)制備系統(tǒng) 239     

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金屬納米粉蒸發(fā)制備系統(tǒng)是一種專業(yè)的設(shè)備，它在冶金領(lǐng)域中具有重要的應(yīng)用價(jià)值。該系統(tǒng)主要用于制備金屬超微粉體材料，具備真空熔煉和澆鑄等多功能，非常適合霧化制粉工藝的探索和小批量生產(chǎn)。系統(tǒng)由高真空獲得與測量系統(tǒng)、感應(yīng)熔煉系統(tǒng)、霧化系統(tǒng)、收集系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)等六部分組成，能夠?qū)崿F(xiàn)精確控制和高效運(yùn)作。

高真空氣霧化制粉系統(tǒng) 367     

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高真空氣霧化制粉系統(tǒng)是一種先進(jìn)的冶金設(shè)備，主要用于制備金屬超微粉體材料，同時(shí)具備真空熔煉和澆鑄等功能，非常適合霧化制粉工藝的摸索和小批量生產(chǎn)。該系統(tǒng)由六大部分組成，包括高真空獲得與測量系統(tǒng)、感應(yīng)熔煉系統(tǒng)、霧化系統(tǒng)、收集系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)，確保了整個(gè)制粉過程的高效與穩(wěn)定。

真空速凝鑄片系統(tǒng) 269     

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VSN-5型真空速凝鑄片系統(tǒng)是一種先進(jìn)的材料加工設(shè)備，專門設(shè)計(jì)用于在真空環(huán)境下進(jìn)行金屬材料的快速凝固鑄造。該系統(tǒng)通過精確控制冷卻速率，能夠生產(chǎn)出具有優(yōu)異微觀結(jié)構(gòu)和性能特點(diǎn)的金屬鑄片。這種速凝工藝特別適用于制造高性能的合金材料，如稀土永磁材料等。

擺錘式?jīng)_擊試驗(yàn)機(jī) 165     

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擺錘式?jīng)_擊試驗(yàn)機(jī)：主要用于測量材料的沖擊性能。試驗(yàn)機(jī)配有示波系統(tǒng)，適用于簡支梁試驗(yàn)(Charpy)試驗(yàn)。

復(fù)合材料力學(xué)性能試驗(yàn)機(jī) 181     

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復(fù)合材料力學(xué)性能試驗(yàn)機(jī)：復(fù)合材料基本力學(xué)性能測試。

萬能材料試驗(yàn)機(jī) 181     

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電子萬能材料試驗(yàn)機(jī)是主要適用于金屬、非金屬、復(fù)合材料的拉伸、壓縮、彎曲等試驗(yàn)，可進(jìn)行低溫、常溫、高溫環(huán)境下的測試，配有低溫環(huán)境箱(-80℃至250℃)，高溫爐(300℃至1100℃)。

納米壓痕儀 145     

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Nano Indenter G200 是用于納米力學(xué)測試的最精確、最靈活、最容易使用的儀器。電磁驅(qū)動(dòng)器具有極佳的力和位移動(dòng)態(tài)范圍，可測量 6 個(gè)數(shù)量級(從納米到毫米)的變形。其應(yīng)用包括半導(dǎo)體、薄膜和 MEM(晶圓應(yīng)用);硬質(zhì)涂層和 DLC 膜;復(fù)合材料、纖維和聚合物;金屬和陶瓷;以及生物材料和生物學(xué)。

顯微維氏硬度計(jì) 239     

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顯微維氏硬度計(jì)：該設(shè)備主要用于金屬材料顯微維氏硬度的測試。

激光熱導(dǎo)儀 155     

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材料的熱物理性質(zhì)以及最終產(chǎn)品的導(dǎo)熱優(yōu)化在各種工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域變得越來越重要。經(jīng)過幾十年的發(fā)展，在測量各種固體、粉末和液體熱導(dǎo)率和熱擴(kuò)散系數(shù)中閃射法已經(jīng)成為最常用的測量方法。Linseis LFA 1000激光導(dǎo)熱系數(shù)測試儀采用模塊化設(shè)計(jì)的最精密的熱擴(kuò)散系數(shù)，熱導(dǎo)率和比熱的測量儀器?？赏瑫r(shí)測量6個(gè)樣品。可以選用多種不同的樣品架，適用于固體，液體，熔體和爐渣。緊湊的設(shè)計(jì)使得硬件和電子元件分離，安裝一個(gè)外罩后可以適應(yīng)于核應(yīng)用。采用自主設(shè)計(jì)的樣品池，實(shí)現(xiàn)了液體樣品導(dǎo)熱系數(shù)/熱擴(kuò)散系數(shù)的測量。

石墨中水分含量測試設(shè)備 186     

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石墨中水分含量測試設(shè)備：性能指標(biāo)：分析天平：檢定精度：0.001g;測量范圍：0-120g；電熱恒溫鼓風(fēng)干燥箱：溫度波動(dòng) ± 1 ℃;控溫范圍 ：50-300℃；

石墨中體積密度含量測試設(shè)備 186     

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石墨中體積密度含量測試設(shè)備：分別采用天平和外徑千分尺測量烘干后石墨樣品的質(zhì)量和體積;根據(jù)體積密度公式計(jì)算得出石墨的體積密度。